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技術文章

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  • 20257-16
    真空加熱腔的使用細節及操作規范

    真空加熱腔是一種通過抽真空環境實現高溫處理的設備,廣泛應用于材料燒結、薄膜制備、半導體退火、有機物去除等實驗與生產場景。其核心功能是通過真空環境避免氧化、污染或揮發物干擾,同時利用精準控溫實現材料特性的改性或成型。以下從設備組成、操作流程、參數控制、安全規范及維護要點等方面詳細闡述使用細節。一、設備組成與功能1.真空系統-機械泵:粗抽真空,快速將腔內氣壓降至10?2Pa量級。-分子泵(或擴散泵):進一步抽氣至高真空(10??~10??Pa),需配合前級機械泵使用。-真空計:實...

  • 20257-16
    常見的濕度環境發生器原理主要有以下幾種方式

    濕度環境發生器旨在準確地創造特定濕度的環境,其工作原理依據不同的技術路徑而有所差異,常見的主要有以下幾種方式:(一)蒸汽加濕原理對于需要提升環境濕度的情況,蒸汽加濕是一種常用手段。通過將水加熱至沸騰狀態,使其轉化為水蒸氣,然后將這些水蒸氣引入到目標空間中。例如,在一些大型工業廠房的濕度調節系統中,利用鍋爐產生高溫蒸汽,再借助管道輸送和風扇擴散,讓水蒸氣均勻分布在空間里,從而增加空氣的含水量,達到提高濕度的目的。這種方式加濕效率高,能夠快速有效地提升濕度,尤其適用于對加濕速度要...

  • 20256-25
    真空加熱臺的使用壽命如何延長

    真空加熱臺是通過真空環境與精準控溫實現材料加熱處理的設備,廣泛應用于半導體、電子封裝、材料燒結等領域。其核心組件包括加熱系統、真空腔體、密封裝置、溫控模塊及真空泵組。養護目標是保持設備性能穩定、延長使用壽命、避免污染或操作失誤導致的故障。日常維護細節1.表面清潔與防塵-每日工作結束后,用無塵布擦拭腔體外部及控制面板,防止灰塵堆積影響散熱或電路。-腔體內壁需每月使用酒精棉片輕拭,避免殘留物附著;若處理揮發性材料,操作后立即清潔。-密封槽定期清理碎屑,防止堵塞導致真空度下降。2....

  • 20256-24
    真空電阻測試臺的這些知識值得我們學習

    真空電阻測試臺的測定步驟包括準備階段、設置參數、放置樣品、開始測試、讀取結果以及結束測試。在使用過程中,需注意安全、環境要求、設備維護以及操作規范等方面的問題,以確保測試的準確性和設備的正常運行。1.安全方面:-確保測試臺接地良好,以防止因漏電或靜電等原因造成人員傷害或設備損壞。-在連接被測電阻和測試線時,應在斷電狀態下進行,避免觸電危險。-對于高壓測試,要嚴格遵守操作規程,設置好安全防護措施,如佩戴絕緣手套、使用絕緣工具等。2.環境要求:-測試應在干燥、通風的環境中進行,避...

  • 20256-18
    對真空電阻測試臺你了解多少?

    真空電阻測試臺是一種用于在真空環境下對電阻等元件進行測試的設備,基于歐姆定律等電學原理,在真空環境下,通過探針與待測電阻形成閉合回路,施加一定的電壓,然后測量通過電阻的電流,從而計算出電阻的阻值。由于是在真空環境中進行測試,可以避免空氣等介質對電阻性能的影響,提高測試的準確性和可靠性。例如對于一些高精度的薄膜電阻、金屬氧化物電阻等,在真空環境下測試能夠更真實地反映其本征特性。真空電阻測試臺的結構組成:-腔體:通常采用一體式不銹鋼腔體,這種結構具有良好的密封性和強度,能夠有效維...

  • 20256-12
    氫氧機檢驗方法

    長期不用氫氧機,剛使用檢查方法,(建議直接更換溶液)先搖晃腔體,然后開機,產氣調節旋紐開到最大。觀察顯示屏數值,觀察產氣量,已605為例,滿功率產氣為680左右,其余型號沒用過,應該是比型號的數字大,比如405的產氣量大于405.同時觀察鋼瓶上端壓力表,壓力再0.15~0.2之間,可能會有差別,最大不超過0.2兆帕。等壓力到大設定值之后,產氣量會急劇下降。緩慢歸零(常規是小于10)。然后關機,檢查管道各個位置是否漏氣,管道檢查完之后,觀察壓力表是否有明顯的變化,觀察出氣量。正...

  • 20256-9
    進出氣口的壓力可以調節嗎

    進氣口調節用減壓閥,出氣口調節用背壓閥。科普:一級減壓閥作用氣瓶壓力10MPa這個壓力很高太危險而且設備大部分都是小壓力進氣的這時候需要減壓閥使氣瓶氣體輸出壓力調節到小壓力。二級減壓閥作用在上面基礎上二級減壓閥能調節更小的壓力并且輸出壓力精度高穩定特別是客戶使用質量流量計小流量需要使用2級減壓閥,背壓閥的作用是控制氣體輸出前端的壓力控制氣球的壓力用減壓閥控制口腔的壓力用背壓閥。氣體配比器PC在線氣體配比器主要用于氣體流量測試,并按比例混合氣體,為真空管式爐或手套箱營造特定要求...

  • 20256-5
    高潔凈無憂干式分子泵組

    干式分子泵組是真空技術中的一種高1端配置,專為要求更加潔凈、無油污染的高真空/超高真空系統設計。它通常由兩個核心部分組成:干式前級機械泵泵和分子泵。這種組合完1全摒棄了傳統真空泵中的油或脂潤滑,從大氣壓到超高真空全程保持系統潔凈,消除碳氫化合物污染風險。主要應用于半導體制造,晶圓廠的核心工藝設備(刻蝕機、CVD、PVD、ALD、離子注入機);高1端光學鍍膜:激光反射鏡、天文望遠鏡鏡片、光刻鏡頭鍍膜;表面科學與分析;掃描/透射電子顯微鏡(SEM/TEM)樣品室要求嚴苛的科研與材...

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